口頭論文競賽議程(二)
II組 發表時間：10月12日 (五) 10:00 ~ 12:00 發表地點：福爾摩沙講堂
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Oral Time
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Oral No.
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Paper No.
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Title
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10:00~10:10
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II-M
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009
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高透明鋁矽硼氮化物複合硬質薄膜之微結構與特性研究
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10:10~10:20
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II-N
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024
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以射頻常壓電漿束表面改質鋰離子電池正極材料電性能提升之研究
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10:20~10:30
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II-O
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031
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聚電解質多層膜鍍層應用於短期與長期階段性抗菌藥物制放
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10:30~10:40
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II-P
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034
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常壓電漿噴射束製備先天疏水二氧化鈰薄膜與其抗腐蝕性之研究
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10:40~10:50
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II-Q
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046
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以高功率脈衝磁控濺鍍製備鈦鋯矽金屬玻璃薄膜之機械性質研究
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10:50~11:00
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II-R
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074
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W-Nb-Ta-Ti和W-Nb-Ta-Ti-N中熵合金薄膜的機械性質評估
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11:00~11:10
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II-S
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081
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N2Ar流量比對高功率脈衝磁控濺射沉積TiAlSiNCrN多層薄膜微觀結構和性能之研究
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11:10~11:20
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II-T
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094
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Flexible Co-based Heusler alloymuscovite heteroepitaxy
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11:20~11:30
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II-U
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098
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以噴墨印刷技術製作之熱阻式應變感測器
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11:30~11:40
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II-V
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124
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Fabrication of Cross-Coupled Hairpin Bandpass Filter with Vertical Integrated using Fully Inkjet Printing Technology
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11:40~11:50
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II-W
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137
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矽摻雜氮化鉭薄膜製程電漿光譜觀察與微觀結構演變
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11:50~12:00
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II-X
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151
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Effect of substrate bias on the Oxidation Behavior of Al-Cr-Nb-Si-Zr Nitride Thin films
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